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反应离子刻蚀机
产品资料
反应离子刻蚀机
简介:
Trion创建于1989年,是一家
反应离子刻蚀
与沉积系统制造商 Trion为化合物半导体、MEMS(微机电系统)、光电器件以及其他半导体市场提供多种设备。 产品占地面积小、成本低,可靠稳定。
产品详情
Phantom III
反应离子刻蚀
系统
可适用于单个基片、碎片或带承片盘的基片300mm尺寸,为实验室和试制线生产提供可靠的等离子刻蚀能力。
系统有多达七种工艺气体可以用于刻蚀氮化物、氧化物以及需要氟基化学刻蚀的薄膜或基片(如碳、环氧树脂、石墨、铟、钼、氮氧化物、聚酰亚胺、石英、硅、氧化物、氮化物、钽、氮化钽、氮化钛、钨以及钨钛)。该设备还可以用于去除光刻胶和有机材料。可选配静电吸盘(E-chuck),以便更有效地在刻蚀工艺中让基片保持冷却。
该工具可选配一个电感耦合等离子(ICP)源。ICP使得用户可以创建高密度等离子,从而提高刻蚀速率和各向异性等刻蚀性能
通过打开室盖,直接将基片装入工艺室
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